文章編號(hào)：(1992)03-52-6
鉭在NaCl-KCl-K2TaF7熔體中的電化學(xué)還原機(jī)理
李國(guó)勛1 Barhoum A2 Lantelme F2 Chemla M2
(1.有色金屬研究總院;
2.法國(guó)巴黎第六大學(xué))
摘 要: 采用循環(huán)伏安,計(jì)時(shí)電位和計(jì)時(shí)電流三種暫態(tài)技術(shù),研究了鉭離子在720℃NaCl-KCl-K2TaF7熔體中的陰極過程。實(shí)驗(yàn)表明,Ta5+的電還原反應(yīng)為可逆的一步五電子過程Ta5++5e-(?)Ta(可逆)。用三種方法測(cè)得 Ta5+的擴(kuò)散系數(shù) DTa非常一致,并分別為1.15×10-5,1.10×10-5和1.15×10-5cm2·s-1。還研究了含氧離子雜質(zhì)對(duì)鉭還原電極過程的干擾作用。
關(guān)鍵字: NaCI-KCI-K_2TaF_7熔體; 陰極過程; 擴(kuò)散系數(shù); 還原機(jī)理
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Abstract:
Key words:
