摘 要: 利用鉬粉硅粉間蔓延式燃燒合成工藝制備了MoSi₂金屬間化合物。研究發(fā)現(xiàn):合成中首先在顆粒外表面發(fā)生劇烈溶解反應(yīng)，并形成一厚約25~ 30μm的成份梯度變化過渡薄層，MoSi₂是在薄層富硅側(cè)以結(jié)晶方式形成。合成過程中硅已熔化，并通過MoSi₂產(chǎn)物顆粒之間的孔隙向鉬顆粒表面反應(yīng)前沿快速鋪展，使原硅顆粒處成為與硅顆粒尺寸相當(dāng)?shù)墓铝⒋髿饪祝鳰oSi₂顆粒間孔隙或液態(tài)硅流動通道在反應(yīng)后經(jīng)歷不完全燒結(jié)，以分散小氣孔形式殘留在MoSi₂顆粒聚集區(qū)中。合成產(chǎn)物均具有大氣孔與MoSi₂顆粒聚集區(qū)混合分布的組織結(jié)構(gòu)特征。

關(guān)鍵字: 二硅化鉬 燃燒合成 顆粒 氣孔 液相