Transactions of Nonferrous Metals Society of China The Chinese Journal of Nonferrous Metals

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中國有色金屬學報

ZHONGGUO YOUSEJINSHU XUEBAO

第6卷    第2期    總第19期    1996年6月

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文章編號:(1996)02-30-4
次亞磷酸鹽溶液電鍍三價鉻工藝的電化學
蔣漢瀛 王先友 郭炳昆

(中南工業(yè)大學冶化研究所,長沙410083)

摘 要: 研究了次亞磷酸鹽濟液電鍍三價鉻工藝的濟液化學性質,對鍍液中三價鉻離子與次亞磷酸根離子的配位化合物進行了探討。用線性電勢掃描法、循環(huán)伏安法研究了鍍液的電化學特征及鍍液中氟離子、次亞磷酸根離子、溶液pH值對陰極析氫反應的影響。討論了獲得最佳電流效率的條件。

 

關鍵字: 三價鉻電鍍 惰性配體 析氫反應

ELECTROCHEMICAL STUDY OF PROCESS FOR TRIVALENT CHROMIUM PLATING CONTAINING HYPOPHOSPHITE BATH
Jiang Hanying, Wang Xianyou,  Guo Bingkun

Institute of Metallurgical Physicochemistry and Materials, Central South University of Technology, Chaugsha 410083

Abstract:The properties of solution chemistry for the process of trivalent chromium plating containing hy-pophosphite hace been investigated .The coofdination compounds between trivalent chromium ions and hypophos-phite ions have also been discussed. By means of potentiodynamic scanning and cyclic voltammetry,effects of elec-trochemical characteristics and hydrogen evolution on bath components have been studied.

 

Key words: trivalent chromium plating inert ligand hydrogen evolution

ISSN 1004-0609
CN 43-1238/TG
CODEN: ZYJXFK

ISSN 1003-6326
CN 43-1239/TG
CODEN: TNMCEW

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